　　高硼硅碎玻璃在传统的抛光工艺中，时间参数决定抛光效率。由于本实验采用的是超高速抛光机，时间对效率的影响相对于对表面粗糙度、表面平面度等重要加工参照的影响是很小的。高硼硅碎玻璃一般由粗加工到精抛光全过程工艺只需10min左右，平均每道工序只需2min，因此，在抛光过程中，只考虑抛光时间对表面粗糙度、平面度的影响。

　　由实验数据测得，在其他参数不变的情况下，玻璃片表面的粗糙度随时间的延长趋好。因此，适当的增加抛光时间是必要的，可以充分发挥每张膜片的利用率，减少浪费。高硼硅碎玻璃随着时间的延长，表面精确度将趋向某一稳定值，抛光时间太短，会使玻璃表层材料的去除还没有完全改变其初始变质层，膜片利用率降低。当然时间太长，也会由于腐蚀等作用破坏表面精确度。因此，时间的长短应根据抛光薄膜的寿命来决定。

　　抛光过程中，抛光机的高速旋转，使抛光薄膜与工件之间摩擦产生大量的热。高硼硅碎玻璃尽管玻璃对温度变换不敏感，但由于抛光薄膜的基体为聚酯化合物，温度达到一定值会破坏其组织结构，引起薄膜烧伤，磨粒脱落，影响抛光薄膜的抛抛光效果。

　　本文选用纯净水作为冷却液，采用抛光盘中心供给方式，可以充分对抛光薄膜冷却，并会及时带走抛光过程中脱落的小玻璃晶体抛光屑，对抛光过程有清洁作用，使其不至于影响抛光精确度。同时，随抛光速度的增加，应适当增加冷却液供给量，但不能过多。当冷却液过多时，会使玻璃工件像吸盘一样完全吸附在抛光薄膜表面，尤其对粒度小的抛光薄膜，更容易出现吸附现象，使抛光过程变得困难，影响抛光精确度。高硼硅碎玻璃在抛光玻璃过程中，抛光盘处于高速旋转状态，冷却液接触到抛光薄膜的瞬间，便向周围散尽，冷却液太少，不仅起不到冷却作用，而且还会使玻璃工件产生干磨现象，这是薄膜抛光过程中急需避免的现象。

　　高硼硅碎玻璃实验表明，当工件发生干磨现象时，磨粒会大部分脱落，抛光屑中的玻璃晶体变大，造成玻璃加工表面大范围划痕，严重影响抛光效果。因此，需经验丰富的技术人员根据抛光薄膜的磨粒粒度对冷却液的供给量进行控制。

　　通过以上实验数据分析，得出硼硅玻璃薄膜抛光最佳工艺参数路线，并根据抛光薄膜磨粒的种类，将抛光过程分为六道工序。在粗加工两道工序加工过程中，由原始表面粗糙度决定两道工序的加工时间，也可适当延长粗抛光时间。高硼硅碎玻璃精抛光工序由于速度大幅度提升，冷却液应随之适当增加，同时须不断检测表面平面度，观察工件抛光稳定性，当加工到精抛光最后两道工序时，应严格控制冷却液的供给量。

　　高硼硅碎玻璃随速度的提升，抛光时间逐渐减少。当达到最高转速时，抛光精确度不仅受以下固定参数的影响，还受外界条件的影响，如抛光机由高速旋转产生的振动、操作人员技术等不可控参数，需不断检测以保证最优抛光精确度。由于实验抛光机的自身条件，最高转速只能达到8000r/min，限制了抛光薄膜的抛光效果。高硼硅碎玻璃由实验数据中可知，磨料粒度为2#的抛光薄膜并未发挥其最大抛光效果，在今后的实验中，应进一步提高抛光速度。

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