高硼硅碎玻璃由于硼硅玻璃的硬度高，组织结构复杂，很难得到高平面度的表面。传统的光学抛光机都动摆式，即工件相对于磨盘转动，又沿一定的弧线摆动，工件在抛光的同时也不断修正抛光膜。但是，无论抛光参数如何设定，都不能实现工件表面材料的均匀去除，所以工件和抛光膜的面始终处于非收敛变化中，即面形朝凹或凸的方向单调改变。为获得较高的表面精确度，在抛光过程中，需不断检测面形，并调整抛光工艺参数，故对操作员的技术水平要求很高。

　　本文研究的硼硅玻璃抛光工艺所采用的抛光机是自制高速便携式抛光机，其特点是速度高，灵巧轻便，可以任意变换抛光速度。高硼硅碎玻璃在抛光过程中，采用定偏心运动作为工作方式，同时，在高速运作的条件下，工件随抛光盘产生同向自转速度，使其表面平面度进行自我修正，并通过压力对其自转速度进行控制。

　　抛光是通过上盘（工件）和下盘（抛光盘）的相对运动，粘贴在抛光盘上的抛光薄膜对工件表面进行材料去除的过程。工件表面各点材料去除量如何，关系到其平面度的好坏。高硼硅碎玻璃各点相对抛光盘的运动轨迹，是影响表面粗糙度的重要因素。因此，首先要对其材料去除情况和相对运动轨迹进行分析。

　　高硼硅碎玻璃由分析可知，在理想情况下，工件转速与抛光盘转速相同时，工件表面各点的相对线速度相同，材料去除率相同，抛光薄膜对工件表面作用效果也相同，才能得到最优的表面粗糙度。因此，为获得最佳的表面平面度，本实验抛光过程中的压力采用工件自身重力，使其转速达到最高，接近抛光盘转速。高硼硅碎玻璃如对材料进行粗加工抛光，则需再加载重物，使其提高抛光效率。

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