高硼硅碎玻璃熔制池窑结构特点
时间:2021-05-19 作者:91再生 来源:91再生网
高硼硅碎玻璃熔制池窑通常包括侧插电极、底插电极、流液洞、上升道和料道、跑道、玻璃管、监控系统、冷却水系统、成型系统等部分,应用普遍的15.1平方米全电熔池窑,采用12角形阶梯深池垂直融化方式。该型号的熔制池窑熔化效率高、单耗低、投资少、占地少,其与硼硅3.3玻璃液电阻结合使用可以降低电流密度,通过增加电极布置的合理性,实现高温熔化,80-120℃冷顶结构可以有效控制氧化硼的挥发性,降低表层挥发对熔制质量的不利影响,窑底温度的调节能避免出现高硼硅碎玻璃分层现象。
高硼硅玻璃熔制池窑耐火材料一般选用锆刚玉砖、黏土浇筑砖、粘土保温砖、高铝砖、锆质捣打料等。由电极、变压器系统、温控系统、冷却水测量控制系统、液面测控系统所构成的熔炉控检系统,主要进行熔制池窑玻璃液温度、电极电流、液位、水套温度等参数的监控与超限值预警。
在使用高硼硅玻璃熔制池窑过程中,必须加强对主熔化电极参数及其对料液质量、窑体寿命等影响的控制。因受测温位置和熔制方法的限制,温度显示比熔化功率变动要滞后,但玻璃液温度和电导率存在对应关系,所以,使用高硼硅碎玻璃熔制池窑过程中,可以高性能进口数控以为前端控制单元,并通过恒电流控制熔制过程。
高硼硅玻璃熔制过去所采用的电阻丝加热的电阻熔炉能耗高,生产成本高,环境污染大,当前已经基本被淘汰。高硼硅碎玻璃目前生产企业基本采用全电熔熔制工艺,为降低能耗和生产成本,提升熔制生产效率,生产企业通常十分重视熔制池窑型选择,熔制面积、熔制量及熔制工艺控制等方面。
高硼硅碎玻璃从当前实际应用结果看,不同规模的高硼硅玻璃熔制池窑在熔化面积、占地面积、投资额、能耗、产出量等方面存在一定差异,生产企业应根据实际情况合理选用。高硼硅碎玻璃熔化面积增大,设备投资金额必然增加,占地面积也增大,产出量增加。但是从材料消耗和人工消耗来看,能耗的大幅度下降是生产成本控制的重要指标,所以,企业选用熔化面积越大的熔制池窑越有利于降低能耗。
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